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【1/28開催セミナー】EUVリソグラフィ技術の基礎とレジスト材料の開発動向

サイエンス&テクノロジー(株)株式会社
最終更新日: 2026年11月05日

EUVリソグラフィの各要素技術、メタルレジスト・ブロック共重合体等の微細加工材料等を解説するセミナーです。ぜひこの機会にご参加ください。

◇講師
(国研)量子科学技術研究開発機構 高崎量子技術基盤研究所
先端機能材料研究部 プロジェクトリーダー(上席研究員) 山本 洋揮 氏

◇講演趣旨抜粋
コンピュータ性能の更なる向上が要求されている半導体分野において、EUVリソグラフィが実現された。半導体微細加工技術であるEUVリソグラフィは、今後デジタル社会の構築において3次元微細加工技術と並んで極めて重要である。今後も更なる微細加工技術が要求されており、High-NAEUVリソグラフィなどをはじめ、次世代リソグラフィ技術が検討されている。 本セミナーでは、EUVリソグラフィ技術を中心に、近年活発に研究開発がなされている次世代EUVリソグラフィ技術におけるそれぞれの原理、技術動向、他のリソグラフィ技術と比較した際の優位点をはじめ、実用化・普及の可能性、その微細加工材料などに関する最新動向について概説するとともに、我々の最新の成果を解説する。

◇講演プログラム抜粋
1.はじめに
2.EUV/EBリソグラフィ技術の基礎とレジスト材料の開発例
3. メタルレジスト材料の開発動向
4.ブロック共重合体を用いた自己組織化リソグラフィ技術の基礎と動向
5.おわりに

基本情報

◇日時:2027年1月28日(木) 13:00~17:00 
◇受講料(税込):49,500円 ※2名同時申込みで1名分無料等、各種割引特典有 
◇受講可能な形式:【ライブ配信】のみ

価格帯 1万円以上 10万円未満
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取扱企業

サイエンス&テクノロジー(株)株式会社

業種:サービス業  所在地:東京都 港区浜松町1-2-12 浜松町F-1ビル7F

「情報を必要とする人」と「情報を持つ人」の結び目に

現在では、多くの情報を誰でも容易に得ることができるようになりました。しかし、依然として、“自分が本当に必要な正確な情報” は獲得できない状況にあることに変わりはありません。また、それを得るためには、業種・企業・産官学・社会的立場・人脈・年齢・物理的な距離の問題など、乗り越えなければならない多くの壁があることも事実です。
一方、社会へ貢献できる貴重な情報を持ちながらも、必要な人々へ伝達・発信することができないという壁も存在しています。当社は、皆様に代わって「壁」を超え、必要とする人と情報を与える人を結びつける役割を担います。

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