カテゴリー
- 真空バルブ（ゲートバルブ、ベンドロールバルブ）
- オーリング
- シール／フランジ
- 真空開閉シャッタ
- ステージ（リニアモータ）
- リニアモータ駆動システム
- 静電チャック
- 熱電対／パイロメータ
- サセプタ
- センサ（温度、湿度、圧力、流量など）
- 各種保護材料（消耗材料）
- マスフローコントローラ
- ガスバルブ
- 薬液バルブ
- キャピラリー
- 薬液用ポンプ
- テフロン（半導体グレード）
- SASU（半導体グレード）
- 大気ロボット
- 真空ロボット
- リニアモータ搬送システム
- 制御ボード
- 制御用PLC（国内供給）
- 制御用パソコン（国内）
- モータ／サーボモータ
- RF電源／その他電源
- クライオポンプ
- ターボ分子ポンプ
- ドライポンプ
- チラー
- 防塵衣
- エンドポイントモニタ
- ケーブル／光ファイバ
- 真空バルブ
- オーリング
- 真空シール／フランジ
- 真空開閉シャッタ
- ステージ（リニアモータ）
- リニアモータ駆動システム
- 静電チャック
- 熱電対／パイロメータ
- センサ（温度、湿度、圧力、流量など）
- 各種保護材料（消耗材料）
- ヒータ（蒸着装置向け）
- サセプタ（半導体にも追加）
- マスフローコントローラ
- ガスバルブ
- 薬液バルブ
- キャピラリ／ディスペンサ
- ノズル（スプレーノズル、スリットノズルなどを含む）
- インクジェットヘッド（ノズル）
- 薬液用ポンプ
- スペーサ供給ユニット
- コロナガン
- テフロン（半導体グレード）
- SUS（半導体グレード）
- 大気ロボット
- 真空ロボット
- リニアモータ搬送システム
- 制御ボード
- 制御用PLC（国内供給）
- 制御用パソコン（国内）
- モータ／サーボモータ
- RF電源／その他電源
- クライオポンプ
- ターボ分子ポンプ
- ドライポンプ
- チラー
- レーザ光源
- 赤外線検出器
- シリコン
- 化合物半導体
- マスク基板
- マスクブランクス
- フォトマスク
- g・i線レジスト／現像液
- KrFレジスト／現像液
- ArFレジスト／現像液
- AｒF液浸レジスト／現像液
- EUVレジスト／現像液
- ターゲット材
- CVD・ALD用成膜材料(High-k材料/low-k材料/その他）
- クリーニングガス
- めっき材料
- コーティング材料
- イオンドーピングガス
- 厚膜・その他レジスト
- エッチング液
- エッチングガス
- スラリー
- パッド
- パッドコンディショナ
- 洗浄液
- 超純水・機能水
- サブストレート（パッケージ基板）／インターポーザ
- TAB・COFテープ 接着剤 接着テープ
- 接着剤 接着テープ
- アンダーフィル
- ボンディングワイヤ
- リードフレーム
- はんだボール
- 封止樹脂
- セラミックパッケージ
- フリップチップ用エポキシ樹脂封止材
- バックグラインディングプロセス用テープ/ウエハレベルCSP用裏面保護フィルム
- ダイシング／ダイボンディング用フィルム
- その他フィルム
- マスク基板
- マスクブランクス
- フォトマスク
- ガラス基板（液晶）
- ガラス基板（OLED用）
- Crガス、薬液、Si
- Cr、ITO
- カラーフィルタ用色材（カラーレジスト/顔料）、インクジェット用インク
- フォトレジスト、現像液
- 配向膜材料（SiO2）：CVDガス材料、ポリイミド（樹脂）
- 液晶材料
- スペーサ材料（シリコン球）
- シール（封止）材（接着剤）／メインシール材／仮接着剤
- 液晶注入口封止材（紫外線硬化樹脂材料）
- 偏光フィルム
- 基板（仮配置基板）
- ポリイミド樹脂
- 正孔注入層材（有機膜）
- 正孔輸送層材（有機膜）
- 電子注入層材料（有機膜、金属化合物薄膜
- 電子注入層材料（有機膜、金属化合物薄膜
- 高分子有機EL材料
- 有機EL材料（蒸着用）
- 蒸着材料
1640A
ソニックノズルを利用した圧力ベースのマスフローコントローラ
・MEMSソニックノズルを利用した圧力ベースのマスフローコントローラ
・10 Torr未満の圧力でのガス流量の制御
・Baratron圧力トランスデューサーによる圧力ベースの流量測定
・厳格なメタルシールド設計とSTRIFEテストにより、長期的な信頼性を確保
・熱式（サーマル）マスフローコントローラと同じ設置面積と電気的仕様
・アプリケーション：イオン注入用のSafe Delivery Source（SDS）用ガス供給、常圧TEOS CVDのオゾン供給など
基本情報
・TypeMass Flow Controller
・Full Scale Flow Range 2 - 20 sccm (N2 equivalent)
・Maximum Inlet Pressure 5 psig
・Control Range 5-100% of Full Scale (typical)
・Typical Accuracy Gas/flow rate dependent (including non - linearity, hysteresis, and non - repeatability referenced to 760 mmHg and 0°C)
・Repeatability ±0.2% of Full Scale
・Resolution 0.1% of Full Scale
・Zero Temperature Coefficient <0.02% of Full Scale/°C
・Span Temperature Coefficient <0.2% of Reading/°C
・Warm-up Time <30 min (to within 0.2% of Full Scale of steady state performance)
・Typical Settling Time <5 sec to 100% of Full Scale (per SEMI Guideline E17-91)
・Operating Temperature 0 - 50°C
・Set Point Command Signal 0 - 5 VDC from <20 kOhm
・Flow Input Output Signal 0 - 5 VDC into >10 kOhm
・Wetted Materials 316L stainless steel, nickel, InconelR, Kel - FR, Chemraz or Kalrez (gas/application dependent)
・External Leak Integrity <1 x 10-9
・Leak Integrity Through Closed Valve 1% of Full Scale (Nitrogen) at 15 psig inlet to atmosphere. To assure no flow-through, a separate positive shut-off valve is required.
・Fitting Type Compatible With Swagelok 4VCR
・Compliance CE
・Proof Pressure 45 psia
・Normal Operating Pressure Differential below 10 Torr
・Analog I/O Connector15-pin type "D"
・Maximum Current Required at Start-up±15 VDC (±5%) @ 200 mA
・Typical Current Required at Steady State±15 VDC (±5%) @ 100 mA
取扱企業
MKS Instruments
業種：産業用電気機器 2 Tech Drive、Suite 201 アンドーバー、MA 01810、アメリカ合衆国
プロセス制御ソリューションのグローバルプロバイダ
MKS Instruments、Inc.は、高度な製造プロセスの重要なパラメータを測定、監視、配信、分析、実行、制御して、お客様のプロセスパフォーマンスと生産性を向上させる機器、システム、サブシステム、およびプロセス制御ソリューションのグローバルプロバイダです。当社の製品は、圧力の測定と制御、流量の測定と制御、ガスと蒸気の供給、ガス組成分析、電子制御技術、反応性ガスの生成と供給、発電と供給、真空技術、レーザー、フォトニクスのコアコンピテンシーに基づいています。
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