カテゴリー
- 真空バルブ(ゲートバルブ、ベンドロールバルブ)
- オーリング
- シール/フランジ
- 真空開閉シャッタ
- ステージ(リニアモータ)
- リニアモータ駆動システム
- 静電チャック
- 熱電対/パイロメータ
- サセプタ
- センサ(温度、湿度、圧力、流量など)
- 各種保護材料(消耗材料)
- マスフローコントローラ
- ガスバルブ
- 薬液バルブ
- キャピラリー
- 薬液用ポンプ
- テフロン(半導体グレード)
- SASU(半導体グレード)
- 大気ロボット
- 真空ロボット
- リニアモータ搬送システム
- 制御ボード
- 制御用PLC(国内供給)
- 制御用パソコン(国内)
- モータ/サーボモータ
- RF電源/その他電源
- クライオポンプ
- ターボ分子ポンプ
- ドライポンプ
- チラー
- 防塵衣
- エンドポイントモニタ
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- 熱電対/パイロメータ
- センサ(温度、湿度、圧力、流量など)
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- ヒータ(蒸着装置向け)
- サセプタ(半導体にも追加)
- マスフローコントローラ
- ガスバルブ
- 薬液バルブ
- キャピラリ/ディスペンサ
- ノズル(スプレーノズル、スリットノズルなどを含む)
- インクジェットヘッド(ノズル)
- 薬液用ポンプ
- スペーサ供給ユニット
- コロナガン
- テフロン(半導体グレード)
- SUS(半導体グレード)
- 大気ロボット
- 真空ロボット
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- ターボ分子ポンプ
- ドライポンプ
- チラー
- レーザ光源
- 赤外線検出器
- シリコン
- 化合物半導体
- マスク基板
- マスクブランクス
- フォトマスク
- g・i線レジスト/現像液
- KrFレジスト/現像液
- ArFレジスト/現像液
- ArF液浸レジスト/現像液
- EUVレジスト/現像液
- ターゲット材
- CVD・ALD用成膜材料(High-k材料/low-k材料/その他)
- クリーニングガス
- めっき材料
- コーティング材料
- イオンドーピングガス
- 厚膜・その他レジスト
- エッチング液
- エッチングガス
- スラリー
- パッド
- パッドコンディショナ
- 洗浄液
- 超純水・機能水
- サブストレート(パッケージ基板)/インターポーザ
- TAB・COFテープ 接着剤 接着テープ
- 接着剤 接着テープ
- アンダーフィル
- ボンディングワイヤ
- リードフレーム
- はんだボール
- 封止樹脂
- セラミックパッケージ
- フリップチップ用エポキシ樹脂封止材
- バックグラインディングプロセス用テープ/ウエハレベルCSP用裏面保護フィルム
- ダイシング/ダイボンディング用フィルム
- その他フィルム
- マスク基板
- マスクブランクス
- フォトマスク
- ガラス基板(液晶)
- ガラス基板(OLED用)
- Crガス、薬液、Si
- Cr、ITO
- カラーフィルタ用色材(カラーレジスト/顔料)、インクジェット用インク
- フォトレジスト、現像液
- 配向膜材料(SiO2):CVDガス材料、ポリイミド(樹脂)
- 液晶材料
- スペーサ材料(シリコン球)
- シール(封止)材(接着剤)/メインシール材/仮接着剤
- 液晶注入口封止材(紫外線硬化樹脂材料)
- 偏光フィルム
- 基板(仮配置基板)
- ポリイミド樹脂
- 正孔注入層材(有機膜)
- 正孔輸送層材(有機膜)
- 電子注入層材料(有機膜、金属化合物薄膜
- 電子注入層材料(有機膜、金属化合物薄膜
- 高分子有機EL材料
- 有機EL材料(蒸着用)
- 蒸着材料
P4B
次世代高性能マルチガス・マルチレンジ、5~50,000sccm マスフローコントローラ
P4Bは精度、反応速度などで厳密な制御が要求される分野に対応した次世代マルチガス/マルチレンジ・マスフローコントローラ。サイズも小型化の要求に対応したものとなっている。代マルチガス/マルチレンジのガスパラメータを内部に記憶させておけるため、高精度な設定を短時間で行うことができる。
・流量:5~50,000 sccm
・マルチガス/マルチレンジで1%のセットポイント
・Analog I/O: 0~5 VDC
・Digital I/O: DeviceNet, RS485
基本情報
・Full Scale Flow Range 5 - 50,000 sccm (N2 equivalent)
・Maximum Inlet Pressure 150 psig
・Normal Operating Pressure Differential
5 to 5000 sccm (10 to 40 psid)
10000 to 20000 sccm (15 to 40 psid)
30000 to 50000 sccm (25 to 40 psid)
・Proof Pressure 1000 psig
・Burst Pressure 1500 psig
・Control Range 2% to 100% of Full Scale
・Typical Accuracy ±1% of set point for 20 to 100% Full Scale
±0.2% of Full Scale for 2 to 20% Full Scale
・Repeatability ±0.3% of Reading
・Resolution 0.1% of Full Scale
・Zero Temperature Coefficient < 0.05% of Full Scale/°C
・Span Temperature Coefficient < 0.08% of Reading/°C
・Inlet Pressure Coefficient < 0.02% of Reading/psi
・Typical Settling Time < 750 msec., typical above 5% Full Scale
・Warm-up Time 30 minutes
・Operating Temperature 10° to 50°C
・Storage Humidity 0 to 95% Relative Humidity, non-condensing
・Storage Temperature -20° to 80°C
・Temperature Display 0 to 100°C
・Temperature Accuracy ±2°C
・Temperature Resolution 0.1°C
・Display 4 digits for value, 4 characters for unit
・External Leak Integrity < 1 x 10 (scc/sec He)
・Leak Integrity Through Closed Valve < 1.0% of Full Scale at 25 psig inlet to atmosphere
・Wetted Materials 316L stainless steel VAR,316 stainless steel, Elgiloy, KM-45
・Valve Seat Material PTFE (Teflon)
・Surface Finish 10μ inch average Ra
・Weight 3lbs (1.4 kg)
・Compliance CE
・Power Requirements +15 to +24 VDC @ 350mA max
・Analog I/O Connector 15-pin Type "D" Male, 9 pin Type "D" Male
・Flow Input Output Signa l0 to 5 VDC
取扱企業
MKS Instruments
業種:産業用電気機器 2 Tech Drive、Suite 201 アンドーバー、MA 01810、アメリカ合衆国
プロセス制御ソリューションのグローバルプロバイダ
MKS Instruments、Inc.は、高度な製造プロセスの重要なパラメータを測定、監視、配信、分析、実行、制御して、お客様のプロセスパフォーマンスと生産性を向上させる機器、システム、サブシステム、およびプロセス制御ソリューションのグローバルプロバイダです。当社の製品は、圧力の測定と制御、流量の測定と制御、ガスと蒸気の供給、ガス組成分析、電子制御技術、反応性ガスの生成と供給、発電と供給、真空技術、レーザー、フォトニクスのコアコンピテンシーに基づいています。
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