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毎時450枚以上のハイスループットを実現するデュアルトラックシステム

1. 高信頼性を確保しながらハイスループット実現
デュアルプロセスラインでウェーハ処理を並行に進めることにより、各ラインのウェーハ搬送速度を抑えながら、飛躍的なスループット向上を実現しました。同時に搬送システムの高信頼性も確保しています。

2. ノンストップオペレーションによる高生産性
デュアルプロセスラインを独立に運用することも可能。メンテナンスなどを行いながら、生産を行うことができ、装置のダウンタイム低減が図れます。高価な露光機を常にウェーハ処理状態に保つことにより、高生産性を実現します。

3. 省フットプリント&フレキシブルな構成
デュアルプロセスラインをコンパクトに収めたプラットフォーム設計により、大幅なフットプリントの削減を実現。また柔軟な装置構成の組み合わせにより、プロセスに応じた最適かつ最小なフットプリントでの設置を可能にします。

4. 最先端リソグラフィ対応と歩留まり向上技術
長年培ってきた塗布・現像・ベークなどの技術ノウハウを全面的に継承するとともに、先端液浸リソグラフィをはじめ、EUVリソグラフィ、電子ビーム、ダイレクトセルフアッセンブリ（DSA）への対応、量産の歩留まり向上に効果を発揮する独自技術の搭載など、最先端分野で想定されるさまざまな環境に対応します。

株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ

業種：産業用機械所在地：京都府京都市上京区堀川通寺之内上る４丁目天神北町1-1

半導体製造用洗浄装置のトップメーカー

SCREENセミコンダクターソリューションズは、
エッチング、フォトリソグラフィ、画像処理を技術のコアとし、半導体洗浄プロセスにおいて世界のトップメーカとなっている。最先端デバイス向けの高機能・高生産性装置から、200mm以下のさまざまなサイズ・形状の基板に対応できる製品まで、幅広い装置ラインナップをそろえている

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