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MBMW-101(IMS Nanofabrication GmbH製品)

日本電子株式会社
最終更新日: 2021年02月18日

マルチビーム電子線描画装置

26万本の電子ビームを照射することで、高解像レジストの使用が可能となり、曲線を含む複雑なパターン形状に対しても描画時間を大幅に短縮できる。また、高精度リニアステージを採用することで、描画精度の向上を実現している。

基本情報

電子ビームエネルギー(基板上) 50 keV
プログラマブルビーム 512 x 512 (262,144)
マルチビーム面積 82 μm x 82 μm
解像度/位置精度 14 nm / 0.1 nm
最大電流密度 1 A/cm2
最大電子電流 1 μA

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取扱企業

日本電子株式会社

業種:産業用機械  所在地:東京都 昭島市武蔵野 3丁目1番2号

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