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ミニマルメタルエッチングプロセスの開発と特性評価

グローバルネット株式会社
最終更新日: 2024年08月29日

産総研、田中 宏幸

ミニマルファブ

基本情報

 ミニマルファブはCMOSデバイス開発やMEMS技術を応用した小型加速度センサなどのプロセス開発において、一般的にAlやAl合金を使用している。しかしプラズマドライエッチングのプラズマダメージ問題を回避するため、ウェットエッチングが採用されてきた。ウェットエッチングは安価で表面均一性が良好であり、下地材料の薄膜に損傷を与えずにエッチングを停止できる利点があるが、パターンサイズが微細になるとパターンの忠実度が低下することが知られていおり、またAl合金に含まれる不純物がエッチング残渣として表面に残る課題もある。我々はプラズマメタルエッチング装置を改良し、Al合金加工方法の選択肢を増やすためのプロセス開発を行い、その概要と性能評価を報告する。

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グローバルネット株式会社

業種:産業用電気機器  所在地:東京都 中央区湊 1-2-10 堀川ビル6F

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グローバルネット株式会社(GNC)は出版やセミナーを通して、半導体やフラットパネルディスプレイの情報をタイムリーに提供することを目的に1990年に設立しました。そして2020年には創業30年を迎えます。
1994年にCMPプラナリゼーション委員会の事務局として活動する機会を経て、会員の皆様にCMP向け層間絶縁膜用テストウエハの提供を始めたことがきっかけとなり、テストウエハの試作・加工ファンドリビジネスに参入、事業化を致しました。

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