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ヘリウムイオン顕微鏡技術による極薄シリコンナノシートへの直接ナノ加工

グローバルネット株式会社
最終更新日: 2024年09月24日

産総研、森田 行則

ナノ加工

基本情報

 シリコンの微細化が性能向上の限界に達している中、ナノ加工領域での新たな物理現象を利用した性能向上の可能性が残されている。ヘリウムイオン顕微鏡(HIM)技術を用いたナノ加工により、導電性や熱電導性の制御が二次元材料で行われてきたが、シリコンへの応用は少なかった。本研究では、極薄シリコンナノシートに対してHIMを用いたナノ加工を行い、位置制御されたナノポアアレイの形成を検証した。実験では、1〜3 nmまで薄膜化したSOI試料にHe+イオンビームを照射し、加工形状と欠陥の発生を評価した。結果として、He+イオン照射によるナノポアアレイ形成が可能であり、イオン照射による欠陥の大幅な増加は見られないことが示された。これは、ナノ加工によるシリコンの新機能化に向けた重要な一歩となる。

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業種:産業用電気機器  所在地:東京都 中央区港 1-2-10 堀川ビル6F

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1994年にCMPプラナリゼーション委員会の事務局として活動する機会を経て、会員の皆様にCMP向け層間絶縁膜用テストウエハの提供を始めたことがきっかけとなり、テストウエハの試作・加工ファンドリビジネスに参入、事業化を致しました。

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