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水蒸気低温プラズマジェット照射によるポリシラザンのシリカ転化メカニズム

グローバルネット株式会社
最終更新日: 2024年09月24日

広島商船高専、酒池 耕平

SiO2薄膜

基本情報

 SiO2薄膜は、パーヒドロポリシラザン(PHPS)を用いて非真空・大気圧下で様々な基材に成膜可能である。無機膜が得られるPHPSは450℃で加熱することで、加水分解しSiO2膜へと転化する。100℃以下の低温でシリカ転化が実現すれば、フレキシブルエレクトロニクスへの応用が期待される。本研究では、9kV、30kHzの電源でアルゴンと水蒸気混合ガスの低温プラズマジェットを生成し、PHPS薄膜に照射することで52℃の低温でシリカ転化に成功した。実時間FT-IR測定により、低温プラズマジェット照射によるPHPSのシリカ転化メカニズムが明らかとなり、加水分解に加え紫外光によるSi-H結合の切断と
新たなSi-OH結合の生成、脱水縮合によるSi-O-Si結合の形成が行われることが示された。この技術は、低温でのシリカ転化を可能にし、フレキシブルデバイスへの応用を促進する可能性を秘めている。

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業種:産業用電気機器  所在地:東京都 中央区港 1-2-10 堀川ビル6F

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1994年にCMPプラナリゼーション委員会の事務局として活動する機会を経て、会員の皆様にCMP向け層間絶縁膜用テストウエハの提供を始めたことがきっかけとなり、テストウエハの試作・加工ファンドリビジネスに参入、事業化を致しました。

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