カテゴリー
- 真空バルブ（ゲートバルブ、ベンドロールバルブ）
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- 真空開閉シャッタ
- ステージ（リニアモータ）
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- 静電チャック
- 熱電対／パイロメータ
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- センサ（温度、湿度、圧力、流量など）
- 各種保護材料（消耗材料）
- マスフローコントローラ
- ガスバルブ
- 薬液バルブ
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- 薬液用ポンプ
- テフロン（半導体グレード）
- SASU（半導体グレード）
- 大気ロボット
- 真空ロボット
- リニアモータ搬送システム
- 制御ボード
- 制御用PLC（国内供給）
- 制御用パソコン（国内）
- モータ／サーボモータ
- RF電源／その他電源
- クライオポンプ
- ターボ分子ポンプ
- ドライポンプ
- チラー
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- リニアモータ駆動システム
- 静電チャック
- 熱電対／パイロメータ
- センサ（温度、湿度、圧力、流量など）
- 各種保護材料（消耗材料）
- ヒータ（蒸着装置向け）
- サセプタ（半導体にも追加）
- マスフローコントローラ
- ガスバルブ
- 薬液バルブ
- キャピラリ／ディスペンサ
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- 薬液用ポンプ
- スペーサ供給ユニット
- コロナガン
- テフロン（半導体グレード）
- SUS（半導体グレード）
- 大気ロボット
- 真空ロボット
- リニアモータ搬送システム
- 制御ボード
- 制御用PLC（国内供給）
- 制御用パソコン（国内）
- モータ／サーボモータ
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- クライオポンプ
- ターボ分子ポンプ
- ドライポンプ
- チラー
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- シリコン
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- マスクブランクス
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- g・i線レジスト／現像液
- KrFレジスト／現像液
- ArFレジスト／現像液
- AｒF液浸レジスト／現像液
- EUVレジスト／現像液
- ターゲット材
- CVD・ALD用成膜材料(High-k材料/low-k材料/その他）
- クリーニングガス
- めっき材料
- コーティング材料
- イオンドーピングガス
- 厚膜・その他レジスト
- エッチング液
- エッチングガス
- スラリー
- パッド
- パッドコンディショナ
- 洗浄液
- 超純水・機能水
- サブストレート（パッケージ基板）／インターポーザ
- TAB・COFテープ 接着剤 接着テープ
- 接着剤 接着テープ
- アンダーフィル
- ボンディングワイヤ
- リードフレーム
- はんだボール
- 封止樹脂
- セラミックパッケージ
- フリップチップ用エポキシ樹脂封止材
- バックグラインディングプロセス用テープ/ウエハレベルCSP用裏面保護フィルム
- ダイシング／ダイボンディング用フィルム
- その他フィルム
- マスク基板
- マスクブランクス
- フォトマスク
- ガラス基板（液晶）
- ガラス基板（OLED用）
- Crガス、薬液、Si
- Cr、ITO
- カラーフィルタ用色材（カラーレジスト/顔料）、インクジェット用インク
- フォトレジスト、現像液
- 配向膜材料（SiO2）：CVDガス材料、ポリイミド（樹脂）
- 液晶材料
- スペーサ材料（シリコン球）
- シール（封止）材（接着剤）／メインシール材／仮接着剤
- 液晶注入口封止材（紫外線硬化樹脂材料）
- 偏光フィルム
- 基板（仮配置基板）
- ポリイミド樹脂
- 正孔注入層材（有機膜）
- 正孔輸送層材（有機膜）
- 電子注入層材料（有機膜、金属化合物薄膜
- 電子注入層材料（有機膜、金属化合物薄膜
- 高分子有機EL材料
- 有機EL材料（蒸着用）
- 蒸着材料
ミニマル液体ドーパント・プロセスを用いたMOSFET のシート抵抗の面内均一化
ミニマルファブ推進機構、中道 修平
ミニマルファブ
基本情報
産総研とミニマルファブ推進機構は、φ12.5mmのハーフインチウェハを使用したミニマルファブ生産システムの開発を進めている。このシステムでは、SOD材料を用いた熱拡散法による不純物拡散がMOSFETデバイスの試作に利用されており、CMOSデバイスや集積回路の試作に成功している。SOD塗布プロセスの安定性向上にも取り組んでおり、ウェハコーティング時の面内均一性、エッジビード、裏面への回り込みといった問題に対応する新しい塗布プロセスを開発した。特に、ボロンドープpMOSFETのウェハエッジ付近でのシート抵抗バラツキを減少させる改良が行われた。99セルのTEGを含むウェハ上にトランジスタと抵抗器を配置し、Al/Siゲートと60nmの酸化膜を使用している。SOD溶液中のボロンを含んだ溶剤を均一に分散させるため、塗布の前に振動機でシェイクすることで、ウェハ面内でのシート抵抗のばらつきを大幅に減少させ、均一なドーピング分布を実現した。この改善により、SOD塗布の面内均一性が向上し、より高集積で安定したデバイス製造が可能になる。
取扱企業
グローバルネット株式会社
業種：産業用電気機器 所在地：東京都 中央地区 港区 1-2-10 堀川ビル6F
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グローバルネット株式会社（GNC）は出版やセミナーを通して、半導体やフラットパネルディスプレイの情報をタイムリーに提供することを目的に1990年に設立しました。そして2020年には創業30年を迎えます。
1994年にCMPプラナリゼーション委員会の事務局として活動する機会を経て、会員の皆様にCMP向け層間絶縁膜用テストウエハの提供を始めたことがきっかけとなり、テストウエハの試作・加工ファンドリビジネスに参入、事業化を致しました。
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ミニマル液体ドーパント・プロセスを用いたMOSFET のシート抵抗の面内均一化
