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レーザー励起光電子顕微鏡で可視化したフォトレジスト上の潜像と電場分布

グローバルネット株式会社
最終更新日: 2025年08月19日

東大院新領域、藤原 弘和

潜像
EUVリソ

基本情報

 潜像は、リソグラフィ工程で露光により形成される化学的なパターンであり、通常は現像後に検査される。本研究では、レーザー励起光電子顕微鏡(laser-PEEM)を用いてポジ型フォトレジストAR-P3170の潜像を可視化し、概念実証を行った。露光プロセスにおいて、ドーズ量を増加させると潜像コントラストが向上し、線幅の変化が確認された。また、光電子スペクトルの変化から露光領域の正帯電が明らかとなり、極端紫外線リソグラフィにおける二次電子のダイナミクス理解につながることが期待される。

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グローバルネット株式会社

業種:産業用電気機器  所在地:東京都 港区中央 1-2-10 堀川ビル6F

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1994年にCMPプラナリゼーション委員会の事務局として活動する機会を経て、会員の皆様にCMP向け層間絶縁膜用テストウエハの提供を始めたことがきっかけとなり、テストウエハの試作・加工ファンドリビジネスに参入、事業化を致しました。

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