半導体/MEMS/ディスプレイのWEBEXHIBITION（WEB展示会）による製品・サービスのマッチングサービス SEMI-NET（セミネット）

◇講師
国立大学法人　長岡技術科学大学　名誉教授
アドヒージョン株式会社代表取締役社長
博士（工学）河合晃　氏

◇講演趣旨抜粋
　本セミナーでは、フォトレジスト材料の特性、プロセス最適化の方法、付着・濡れ・欠陥といった各種トラブルへの対応策に焦点を当て、評価・解決のアプローチを丁寧に解説します。さらに、レジスト形状・寸法制御、処理条件の設定方法、研究開発やトラブル対応など、実務での具体的な進め方についても、豊富な実例を交えて紹介します。
　本セミナーは、レジスト材料の開発者、レジスト処理装置の技術者、レジストユーザー、これからレジスト技術に携わる方、そしてリソグラフィ工程でトラブルを抱えている方々を対象とします。受講者の皆さまが日々直面しているトラブルやノウハウに関するご相談にも、個別に対応いたします。

◇講演プログラム抜粋
1．パターン形成の基礎
　1-1 レジスト材料とプロセス
　1-2 パターン露光描画
　1-3 レジスト処理装置

2．レジスト寸法と形状最適化
　2-1 コントラスト制御
　2-2 寸法と形状コントロール
　2-3 改善プロセス技術

3．レジスト欠陥・トラブル対策
　3-1 致命欠陥
　3-2 レジスト剥離
　3-3 レジスト欠陥と対策

基本情報

◇日時：2026年9月30日（水） 13:00～16:30　
◇受講料(税込)：49,500円　※2名同時申込みで1名分無料等、各種割引特典有　
◇受講可能な形式：【ライブ配信】or【アーカイブ配信】　

価格帯	1万円以上 10万円未満

お問い合わせ

取扱企業

サイエンス＆テクノロジー(株)株式会社

業種：サービス業所在地：東京都港区浜松町1-2-12 浜松町F-1ビル7F

「情報を必要とする人」と「情報を持つ人」の結び目に

現在では、多くの情報を誰でも容易に得ることができるようになりました。しかし、依然として、“自分が本当に必要な正確な情報” は獲得できない状況にあることに変わりはありません。また、それを得るためには、業種・企業・産官学・社会的立場・人脈・年齢・物理的な距離の問題など、乗り越えなければならない多くの壁があることも事実です。
一方、社会へ貢献できる貴重な情報を持ちながらも、必要な人々へ伝達・発信することができないという壁も存在しています。当社は、皆様に代わって「壁」を超え、必要とする人と情報を与える人を結びつける役割を担います。

カテゴリー

サイエンス＆テクノロジー(株)株式会社

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