半導体/MEMS/ディスプレイのWEBEXHIBITION（WEB展示会）による製品・サービスのマッチングサービス SEMI-NET（セミネット）

半導体デバイスの微細化・高集積化に伴い、半導体洗浄は、パターン倒れを抑制しながら、微小なパーティクルや金属・有機汚染の除去、腐食抑制などを実施するという、厳しい状況にあります。

本セミナーでは、半導体洗浄の基礎から、CMP後洗浄剤の機能設計、物理洗浄のメカニズム、洗浄性能の評価技術まで幅広く解説するとともに、先端配線やハイブリッドボンディングなど、先端半導体プロセスにおける洗浄の課題と対策についても紹介し、皆様の課題解決の糸口になることを目指します。

プログラム：
13:05～14:00　半導体洗浄のサイエンスと課題解決の考え方　
講師：森永　均氏（フジミインコーポレーテッド）
14:00～14:55　先端半導体プロセスにおける洗浄の課題と対策(仮)　　
講師：虎井真司氏　（SCREENセミコンダクターソリューションズ）
14:55～15:20　コーヒーブレイク
紹介：Nano Gas水（水素ナノバブル含有水溶液　液体中に長期間バブルを安定して残す技術、10年経過しても消えない泡）　　　　　　　
15:20～16:05 物理洗浄のメカニズムと高性能化（仮）　
講師：清家善之先生（愛知工業大学工学部電気電子材料研究室）
16:05～16:50　CMP後洗浄技術の基礎と先端デバイスへの対応　
講師：竹下寛氏　（三菱ケミカル株式会社）
16:50～17:00 名刺交換会

基本情報

開催日時：2026年11月27日（金）13:00〜17:00
開催場所：プラザエフ（各線四ツ谷駅より徒歩1分）/ zoom
定員：会場 30名　オンライン 200名
受講料：個人参加（会場/オンライン）：30,800円（税込み）
　　　　5名までのグループ参加（オンラインのみ）：63,800円（税込み）

価格帯	1万円以上 10万円未満
納期	お申込み期限：開催前日まで可ご参加のための詳細なご案内は、開催日の2日前に配信いたします。

お問い合わせ

取扱企業

グローバルネット株式会社

業種：産業用電気機器所在地：東京都中央区湊 1-2-10 堀川ビル6F

必要な情報をタイムリーに届けたい。

グローバルネット株式会社（GNC）は出版やセミナーを通して、半導体やフラットパネルディスプレイの情報をタイムリーに提供することを目的に1990年に設立しました。そして2025年には創業35年を迎えます。
1994年にCMPプラナリゼーション委員会の事務局として活動する機会を経て、会員の皆様にCMP向け層間絶縁膜用テストウエハの提供を始めたことがきっかけとなり、テストウエハの試作・加工ファンドリビジネスに参入、事業化を致しました。

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【セミナー】半導体CMP後洗浄剤の機能設計と洗浄表面の評価技術 へのお問い合わせ

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