カテゴリー

PECVD装置PF-300T

Piotech
最終更新日: 2021年03月04日

当社が独自に開発した100%知的財産権を有している300mm対応PECVD装置

40〜28nmの集積回路の製造に使用され、14〜5nmのテクノロジーの拡張性を備えている。装置コスト(CoO)と性能指標は優れたレベルに達している。この装置は、国内および台湾における多くの企業の大規模集積回路および先進的なパッケージング生産ライン(TSV)で大量生産されており、国内の半導体装置の強さと成果を十分に展示している。

基本情報

・国際レベルの性能指標
・量産検証済みSiO2、SiN、SiON、TEOSSiO2標準プロセス
・お客様の選択に応じて1〜3個の液体源を構成でき、様々な先進的なプロセスを実現する。
・TSVに必要な低温(<200℃)TEOSSiO2プロセスを所有する
・8インチ互換で切り替えることができる
・優れた生産能力とCoOを所有する
・S2安全認証とF47標準検査に合格している。

お問い合わせ

取扱企業

Piotech

業種:産業用機械 遼寧省瀋陽市卓南区水家900号 

PECVD装置PF-300T へのお問い合わせ

お問い合わせいただくにはログインいただき、プロフィール情報を入力していただく必要があります。


ご依頼目的 必須

ご要望 必須

お問い合わせ ご意見等


※お問い合わせの際、以下の出展者へご連絡先(所属名、部署名、業種、名前、電話番号、郵便番号、住所、メールアドレス)が通知されます。

PECVD装置PF-300T