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Purion-H

Axcelis Technology
最終更新日: 2022年04月01日

多用途性、スループット、均一性を提供し、所有コストを抑制できる高電流イオン注入装置

需要の大きいあらゆる高電流用途において、当社の中電流プラットフォームの業界最高レベルのプロセス制御を可能にします。プラットフォームの柔軟性が高いため、Purion Hをお客様の用途特有のエネルギーやドーズ量の要件に適合させることができます。Purion Hは他にはない多用途性、スループット、均一性を提供し、所有コストを最低限に抑えながら、より高い歩留まりを実現します。

基本情報

〇Purion Contamination Shieldを搭載した独自の走査スポットビームアーキテクチャ。Purion高電流プラットフォームは、現場で実証された高純度エネルギーフィルタを含む5フィルタのビームライン設計を特徴としている。
〇Purion Vectorのドーズ量・角度制御システムは、水平角・垂直角両方の測定と制御を精密に行うことで、ウェハ全体において確実に高精度かつ均一なドーピングを実現します。
〇IdealScanはAxcelisが特許を取得している技術で、注入領域において最も高いビーム電流を得るために最大限に効率化されたスポットビームの走査を行います。高ビーム電流とPurion 500wphエンドステーションの組み合わせが、生産性の最も高いPurion高電流ツールを構成します

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取扱企業

Axcelis Technology

業種:産業用電気機器 108 Cherry Hill Drive,Beverly, MA 01915-1088 

高エネルギーイオン注入装置で実績伸ばす

NOVA社がスピンアウトして設立されたイオン注入装置メーカ。中電流装置ではPurionシリーズを中心に、トップ企業の一つとなっている。また、高エネルギーイオン注入装置でも世界の主要半導体メーカに納入実績を残している。2021年売上高は6億6,200万米ドル。

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