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SiC・GaN向けウェーハ枚葉式自動洗浄装置

PHT株式会社
最終更新日: 2026年02月03日
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・次世代材料に応える、高クリーン・低ダメージ洗浄
・SiC・GaN洗浄のために磨き上げた、枚葉式クリーナ
・高クリーン度とプロセス安定性を両立する枚葉洗浄技術

ウェーハ枚葉式自動洗浄装置（Single Type Wafer Cleaner）

PHT株式会社が提供するウェーハ枚葉式自動洗浄装置は、半導体製造工程における高精度・高クリーン度の洗浄を実現する装置です。

装置仕様（SiC向け事例）

LD／ULD：
・水中LD／空中ULD
・水中保管LD方式により、パーティクルの飛散を防止

ブラシ洗浄：
・両面ブラシスクラブ洗浄
・ロール軸内側から噴水し、ブラシ外部へゴミを排出する構造

オゾン洗浄部：
・最大流量：5 L/min
・オゾン濃度：30 ppm以上（強酸化性洗浄）

物理洗浄：
・周波数：430 kHz
・低ダメージかつ高クリーン度を実現し、安定性の高い洗浄プロセス

スピン乾燥：
・最大回転数：4000 rpm
・高速回転による乾燥効率の向上

チャンバ数：
・4 または 5 チャンバ（カスタム対応可）
・各プロセス専用構成により、薬液混入を防止

ロボット：
・2台搭載
・洗浄前・洗浄後で搬送用ロボットを使い分け

基本情報

製品名：SiC・GaN向け ウェーハ枚葉式自動洗浄装置
用途：半導体ウェーハ洗浄（SiC・GaN対応）
対応サイズ：
　GaN：2～6インチ
　SiC：6～8インチ
対象材料：SiC、GaN、化合物半導体

お問い合わせ

取扱企業

PHT株式会社

業種：産業用機械  所在地：東京都 北区赤羽2丁目 69番2号

半導体搬送システムや半導体洗浄装置などの専門メーカー

PHT株式会社は半導体搬送システム事業、半導体洗浄装置事業を行う企業です。

特徴
PHTは半導体業界の中でウェーハ自動剥離装置（剥離洗浄機）のニッチトップ企業として世界に活躍いたします。

PHTはこれまでシリコンウェーハの搬送やレーザ加工技術を活用して次世代SiC（炭化ケイ素）やGaN（窒化ガリウム）材料をはじめ、化合物半導体向け搬送及び洗浄ソリューション（ロボット・搬送「搬送装置あるいは移載装置、EFEM、SORTER」・自動剥離洗浄装置・洗浄装置）を提案し、特にパワー半導体市場へ積極的にアプローチをしております。当社は、省エネ向け（電気自動車、電力制御）の半導体製造装置へ総合ソリューションの提供体制を創出しています。

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